Organokovové chalkogenidy prvků 13-té skupiny jako SSP pro depozice tenkých vrstev.

Zobrazit minimální záznam

dc.contributor.advisor Jambor, Roman cze
dc.contributor.author Řičica, Tomáš
dc.date.accessioned 2012-09-14T04:42:07Z
dc.date.available 2012-09-14T04:42:07Z
dc.date.issued 2012
dc.identifier Univerzitní knihovna (studovna) cze
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/10195/47405
dc.description.abstract Práce byla zaměřena na organokovové sloučeniny 13. skupiny s chalkogenidy užívané jako SSP pro depozice tenkých vrstev III ? VI materiálů pomocí metody MOCVD. Hlavní pozornost byla upřena na chemickou strukturu a složení SSP obsahující galium a indium. Byly zkoumány především jejich sublimační a rozkladné teploty, které jsou závislé zejména na navázaných alkyl nebo aryl substituentech. Tyto různé depoziční teploty vedly k ukládání tenkých vrstev s rozdílnými strukturami. Jejichž elektrické vlastnosti byly zkoumány. cze
dc.format 52 s. cze
dc.format.extent 1833769 bytes cze
dc.format.mimetype application/pdf cze
dc.language.iso cze
dc.publisher Univerzita Pardubice cze
dc.rights Práce bude přístupná pouze v rámci univerzity od 24.6.2017 cze
dc.subject SSP cze
dc.subject MOCVD cze
dc.subject 13. skupina cze
dc.subject II-VI a III-VI materiál cze
dc.subject tenká vrstva cze
dc.subject 13. group eng
dc.subject II-VI a III-VI material eng
dc.subject thin film eng
dc.title Organokovové chalkogenidy prvků 13-té skupiny jako SSP pro depozice tenkých vrstev. cze
dc.title.alternative Organometallic chalcogenides of 13th group elements as SSP for depositions of thin layers. eng
dc.type bakalářská práce cze
dc.date.accepted 2012 cze
dc.description.abstract-translated The work was focused on metalorganic coumpounds of the 13th group with chalcogenides used as a SSP for the deposition of thin films III ? VI matarials by MOCDV method. The main attention was focused on the chemical structure and compositioon of SSP containing galium and indium. Were investigated study their sublimation and decomposition temperature, which are dependent on alkyl or aryl substituents bonded in structure. These different deposition temperature led to growing thin film with different structure. And their electric properties were studied. eng
dc.description.department Katedra obecné a anorganické chemie cze
dc.thesis.degree-discipline Chemie a technická chemie cze
dc.thesis.degree-name Bc. cze
dc.thesis.degree-grantor Univerzita Pardubice. Fakulta chemicko-technologická cze
dc.identifier.signature D27537 cze
dc.thesis.degree-program Chemie a technická chemie cze
dc.description.defence Posluchač seznámil komisi se svojí bakalářskou prací. Dále reagoval na připomínky a zodpověděl otázky členů komise: Zdůvodněte požadavek na vysokou čistotu prekurzorů. Jakou předpokládáte tloušťku připravených vrstev? Co to jsou inserční reakce? cze
dc.identifier.stag 18289 cze
dc.description.grade Dokončená práce s úspěšnou obhajobou cze


Tento záznam se objevuje v následujících kolekcích

Zobrazit minimální záznam

Vyhledávání


Rozšířené hledání

Procházet

Můj účet